专利摘要:
本発明の上顎洞粘膜挙上用液体注入装置は、前記上顎洞粘膜挙上用液体注入装置の内部を長手方向に貫通して設けられる流路と、後方に設けられ、液体供給装置が連結される連結管と、前方に設けられ、上顎洞粘膜の下部まで形成されたインプラントホールに挿入されて末端が前記粘膜から一定の間隔離れる注入管とを含み、前記注入管は前記インプラントホールを閉鎖している際に液体を注入することができるように構成される。前記上顎洞粘膜挙上用液体注入装置は、液体を用いて上顎洞粘膜に対して均一に圧力を加えて挙上することにより、粘膜の損傷を防止し且つより円滑な挙上が行われるようにすることができる。
公开号:JP2011509111A
申请号:JP2010541401
申请日:2008-12-31
公开日:2011-03-24
发明作者:デヨン キム
申请人:デヨン キム;
IPC主号:A61M5-142
专利说明:

[0001] 本発明は、インプラント施術の際に上顎洞の粘膜を安全に挙上することができるように液体を注入する装置、およびそれを用いた上顎洞粘膜挙上方法に係り、さらに詳しくは、粘膜に液体の圧力が均一に伝えられるようにすることにより、粘膜が損傷することなく挙上されるようにして施術の信頼度を向上させることができる上顎洞粘膜挙上用液体注入装置、およびこれを用いた上顎洞粘膜挙上方法に関する。]
背景技術

[0002] インプラントは、喪失した歯牙の歯根に代わることができるように、人体に拒否反応のないチタニウム製の人工歯根を歯の抜けた歯槽骨に埋め込んで固定した後、前記人工歯根に別途の人工歯を装着して歯の元の機能を回復させる最先端施術法である。このようなインプラントは、前記歯牙組織を損傷させることなく、一度施術すれば半永久的に歯の機能を代替することができるという大きい利点があって、近年広く施術されている。]
[0003] ところが、このようなインプラント施術のうち、上顎臼歯部におけるインプラント成功率は他の部位に比べて比較的低いと報告されている。これは、上顎臼歯部では図1に示すように骨質が弱く、上顎洞20があるので、骨の厚さが薄くて十分な支持力を確保することが可能な長いインプラントを埋め込むことができないためである。] 図1
[0004] また、上顎に存在する上顎洞は、薄い粘膜に囲まれた空間であって、歯牙が喪失した場合、下方に張り出しながら拡張されるので、インプラントを植立することが可能な骨量が足りなくてインプラント施術を困難にした。]
[0005] このため、上顎臼歯部においても十分な支持力を確保した状態でインプラントを施術することを可能にする方法が提案されているが、その代表的な施術方法としては、側方接近上顎洞底挙上術とオステオトーム上顎洞底挙上術などがある。]
[0006] これらの中でも、オステオトーム上顎洞底挙上術は、その施術方法および装置が持続的に改善されてきたので、近年広く用いられている。以下、そのオステオトーム上顎洞底挙上術の施術過程について考察する。]
[0007] まず、ツイストドリルを用いて上顎洞の粘膜に接しない程度の安定な距離、すなわち上顎洞の粘膜下の緻密骨までパイロットホールを形成する。]
[0008] その後、インプラントの直径に適切なインプラントホールが形成されるまで、漸次大きい直径のオステオトームを反復的にパイロットホールに入れて叩くことにより、インプラント植立に適したインプラントホールを形成する。]
[0009] 次いで、オステオトームを丁寧に叩いて緻密骨を破折させた後、緻密骨に形成されたインプラントホールに骨移植材を充填する。]
[0010] その後、骨移植材の充填されたホールに再びオステオトームを入れて軽く叩き、上顎洞粘膜を挙上することにより、インプラント植立が可能な骨の高さを確保する。]
[0011] 最後に、上述した骨の高さが確保されると、インプラントを植立して施術を済ませる。]
[0012] 上述したインプラント施術の際には、上顎洞粘膜を挙上する段階で特に注意を払わなければならない。なぜなら、上顎洞粘膜は、鋭い物質に接するとよく傷付いたり破裂したりするが、このように損傷した場合には深刻な炎症を誘発しあるいは壊死が発生して取りかえしのつかない状態になるためである。]
[0013] ところが、前記オステオトーム上顎洞底挙上術を施行するときは、前述したように、上顎洞粘膜を、施術者が衝撃を加えて挙上する方式を採用しているため、様々な問題点が発生した。例えば、非熟練者による施術の際に必要以上に強い衝撃を加えると、粘膜が損傷する問題があり、熟練者であっても、感覚のみに頼って施術を行うしかないので、少しでも注意を怠れば、粘膜が破裂したり傷付いたりする問題が発生したのである。]
[0014] 上述した従来の技術の問題点を改善するために、上顎洞粘膜の損傷を防止するための多様な挙上方法が提案された。代表的に、粘膜の下までインプラントホールを形成した後、そのインプラントホールにバルーンを差し込んで空気を注入することにより、バルーンが膨張して粘膜が挙上されるようにする方法、あるいはインプラントホールに食塩水などの液体を注射器で注入して粘膜を挙上する液体注入方法などがそれである。]
[0015] ところが、上述した挙上方法も上顎洞粘膜の保護に十分な効果を発揮していない。]
[0016] バルーンを用いた方法は、バルーンが膨張して接する部分にのみ集中的に圧力が加えられることにより、頻繁な粘膜の損傷を誘発した。特に、バルーンが膨張しながら粘膜と摩擦して粘膜を損傷させる場合が頻繁に発生した。]
[0017] 液体を注射器によって注入する液体注入方法の場合も、図2に示すように上顎洞20の粘膜22の下まで形成されたインプラントホール24に注射器30を挿入して液体を注入するが、この際、インプラントホール24を介して噴射される液体の一部がそのまま流れ落ちることにより、十分な圧力を加えることができなくなり、結果として粘膜22が円滑に挙上されないという問題点があった。] 図2
[0018] 特に、粘膜22を十分な程度に挙上するために、液体の噴射圧力を高める場合があったが、この際には、液体が噴射される一箇所にのみ強い圧力が加えられて組織が壊死するなど粘膜22を損傷させた。]
発明が解決しようとする課題

[0019] 本発明は、上述した従来の技術によって上顎洞粘膜を挙上するときに発生する問題点を解決するためになされたもので、その目的は、液体を用いて圧力が均一に加えられた状態で粘膜が挙上されるようにすることにより、粘膜の損傷を防止し且つ円滑な挙上が行われるようにする上顎洞粘膜挙上用液体注入装置、およびこれを用いた上顎洞粘膜挙上方法を提供することにある。]
課題を解決するための手段

[0020] 本発明は、上顎洞粘膜挙上用液体注入装置であって、前記上顎洞粘膜挙上用液体注入装置の内部を長手方向に貫通して設けられる流路と、後方に設けられ、液体供給装置が連結される連結管と、前方に設けられ、上顎洞粘膜の下部まで形成されたインプラントホールに挿入されて末端が前記粘膜から一定の間隔離れる注入管とを含み、前記注入管は前記インプラントホールを閉鎖している際に液体を注入することができるように構成される、上顎洞粘膜挙上用液体注入装置を提供する。前記上顎洞粘膜挙上用液体注入装置は、液体を用いて上顎洞粘膜に対して均一に圧力を加えて挙上することにより、粘膜の損傷を防止し且つより円滑な挙上が行われるようにすることができる。]
発明の効果

[0021] 本発明によれば、液体を用いて上顎洞粘膜に対して均一に圧力を加えることにより、粘膜の損傷を防止し且つより円滑な挙上が行われるようにする効果を得ることができる。]
図面の簡単な説明

[0022] 上顎洞の位置と形状を概略的に示す例示図である。
従来の液体注入方法で上顎洞の粘膜を挙上する過程を示す過程図である。
本発明に係る液体注入装置の斜視図である。
本発明に係る液体注入装置の断面図である。
本発明に係る液体注入装置の他の実施を示す例示図である。
液体供給装置に本発明に係る液体注入装置が連結された状態を示す例示図である。
本発明に係る液体注入装置で上顎洞粘膜を挙上する過程を示す過程図である。
本発明の他の実施例に係る液体注入装置で上顎洞粘膜を挙上する状態を示す例示図である。
本発明によってインプラントが施術された状態を示す例示図である。]
実施例

[0023] 以下、本発明を図3〜図9を参照して詳細に説明する。] 図3 図4 図5 図6 図7 図8 図9
[0024] 図3は本発明に係る液体注入装置の斜視図、図4は本発明に係る液体注入装置の断面図、図5は本発明に係る液体注入装置の他の実施を示す例示図、図6は液体供給装置に本発明に係る液体注入装置が連結された状態を示す例示図である。] 図3 図4 図5 図6
[0025] 図示の如く、本発明に係る液体注入装置10は、円筒状の胴体を有するもので、液体が供給できるように、内部には長手方向に貫通する流路12が設けられており、後方には別途の液体供給装置50に連結される連結管14が設けられ、前方には液体が噴射される注入管16が設けられている。]
[0026] 前記注入管16は、末端部分に前記流路12から外面まで貫通した補助排出口17がさらに設けられている。この構成は、選択的に採用することが可能な構成であって、液体を様々な方向に噴射し得るようにすることにより、より円滑な噴射を可能にする構成である。]
[0027] 一方、前記注入管16は様々な形態で構成できる。例えば、図3に示すように、後方の末端には後方側に行くほど外周の直径が増加する肩部18を形成することができる。あるいは、図5に示すように、注入管16は、末端から後方に行くほど外周の直径が線形的に増加するように構成することができる。] 図3 図5
[0028] 上述の構成によって、液体供給装置50から供給される液体が前記流路12に沿って流れて注入管16を介して外部に噴射できるように構成される。ここで、前記液体供給装置50は液体を供給することが可能な手段であればいずれでも使用可能である。前記液体供給装置は、手動で操作して液体を注入することが可能な装置、または自動的に一定の圧力で一定の時間液体を注入することが可能な装置を選択して使用することができる。]
[0029] 図7は本発明に係る液体注入装置で上顎洞粘膜を挙上する過程を示す過程図、図8は本発明の他の実施例に係る液体注入装置で上顎洞粘膜を挙上する状態を示す例示図、図9は本発明によってインプラントが施術された状態を示す例示図である。] 図7 図8 図9
[0030] ドリル(図示せず)などの穿孔手段を用いて上顎洞20の粘膜22の下部までインプラントホール24を穿設した状態で、本発明に係る液体注入装置10が使用される。前記インプラントホール24に、本発明に係る液体注入装置10の注入管16の末端を挿入した、液体を注入する。]
[0031] 前記注入管16をインプラントホール24に挿入するときは、末端が前記上顎洞20の粘膜22から一定の間隔離れるように挿入することが好ましい。これは注入管16の末端が前記粘膜22に直接接触することにより刺激を加えて粘膜22を損傷させることを防止するためである。]
[0032] 上述したように注入管16をインプラントホール24に挿入すると、前記注入管16の後方に設けられている肩部18が前記インプラントホール24の入口に固く組み込まれることにより、インプラントホール24を閉鎖する。ここで、図8に示すように、本発明の他の実施例によって後方に行くほど外周の直径が増加するように構成された注入管16の場合も、インプラントホール24に固く組み込まれることにより、インプラントホール24を閉鎖する。] 図8
[0033] 注入管16が挿入されてインプラントホール24が閉鎖されると、別途に設けられた液体供給装置50を用いて液体を供給する。液体は前記注入管16に達して前記粘膜22に向かって噴射される。この際、液体が急激に噴射される場合、粘膜22が損傷するおそれがあるので、最も遅い速度で噴射することが好ましいのは勿論である。]
[0034] 上述したように液体が噴射されると、インプラントホール24に液体が充填されることにより粘膜22に圧力が加えられる。インプラントホール24に液体が完全に充填されてからは、粘膜22に加えられる圧力が各部分で一定になって特定の部分に圧力が集中しないので、粘膜22が安全に挙上される。]
[0035] すなわち、インプラントホール24が閉鎖されているので、閉じ込まれた液体の一部分に加えられる圧力は減少せず、全体に広がって伝えられる(パスカルの原理)。よって、液体の圧力が均一に広がって液体が接する粘膜22の全面を一定の圧力で押し上げ、これにより粘膜22の損傷を防止し且つ円滑な挙上が可能となる。]
[0036] 上述した過程によって、上顎洞20の粘膜22の挙上が完了すると、注入管16をインプラントホール24から抜き出し、インプラントホール24を介して流出した液体は適切な方法で除去する。]
[0037] その後、粘膜22が挙上されて設けられた空間に、公知の方法を用いて、患者から採取した骨または人工骨を少しずつ押し込んで移植する。しかる後に、一定の時間が経って前記骨が安定的に定着されると、インプラント40を植立する。これにより、図9に示すようにインプラントの施術が完了する。] 図9
[0038] 10液体注入装置
12流路
14連結管
16注入管
17補助排出口
20上顎洞
22粘膜
24インプラントホール
30注射器
50 液体供給装置]
权利要求:

請求項1
上顎洞粘膜挙上用液体注入装置であって、前記上顎洞粘膜挙上用液体注入装置の内部を長手方向に貫通して設けられる流路と、後方に設けられ、液体供給装置が連結される連結管と、前方に設けられ、上顎洞粘膜の下部まで形成されたインプラントホールに挿入されて末端が前記粘膜から一定の間隔離れる注入管とを含み、前記注入管は、前記インプラントホールを閉鎖している際に液体を注入することができるように構成される、上顎洞粘膜挙上用液体注入装置。
請求項2
前記注入管は、後方の末端には後方に行くほど外周の直径が増加する肩部を有し、前記肩部が前記インプラントホールを閉鎖するように構成される、請求項1に記載の上顎洞粘膜挙上用液体注入装置。
請求項3
前記注入管は、後方に行くほど外周の直径が増加するように構成され、前記インプラントホールを閉鎖する、請求項1に記載の上顎洞粘膜挙上用液体注入装置。
請求項4
前記注入管の末端には、前記流路から外面まで貫通して液体を排出する補助排出口がさらに設けられる、請求項1〜3のいずれか1項に記載の上顎洞粘膜挙上用液体注入装置。
請求項5
ドリルを用いて上顎洞の粘膜の下部までインプラントホールを穿設し、請求項1〜4のいずれか1項による上顎洞粘膜挙上用液体注入装置を備え、前記上顎洞粘膜挙上用液体注入装置の注入管を、前記インプラントホールを閉鎖するよう前記インプラントホールに挿入し、別途の液体供給装置を用いて前記注入管を介して液体を噴射することにより、均一な圧力が前記粘膜に加えられて挙上されるようにする、上顎洞粘膜挙上方法。
請求項6
前記注入管の末端は前記上顎洞の粘膜から一定の間隔離れるように挿入される、請求項5に記載の上顎洞粘膜挙上方法。
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同族专利:
公开号 | 公开日
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引用文献:
公开号 | 申请日 | 公开日 | 申请人 | 专利标题
法律状态:
优先权:
申请号 | 申请日 | 专利标题
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